Nanoskalige OFETs

Institut für Nano- und Mikroelektronische Systeme (INES)

Projekt Nanoskalige OFETs für die Anwendung in Schaltkreisen

Nanoskalige OFETs für die Anwendung in Schaltkreisen

Schnelle organische Chips im Niedrigspannungsbereich

Das Institut für Nano- und Mikroelektronische Systeme, das Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS) und das Max-Planck-Institut für Festkörperforschung in Stuttgart entwickeln derzeit die kleinsten und schnellsten für industrielle Anwendungen geeigneten organischen Niederspannungs-Dünnfilmtransistoren (OTFTs).

Die Herstellung basiert auf hoch auflösenden Siliziumstencilmasken mit einer hervorragenden Festigkeit und Stabilität. Diese Technologie erlaubt Kanallängen im Submikron-Bereich mit deutlich verbessertem Transistor-Matching mit verbesserter Performance für die Verdrahtung.

Eine Siliziumstencilmaske ist eine dünne Membran aus Silizium, in die Löcher mit vorgegebener Geometrie geätzt werden. Durch diese Öffnungen werden die für die Schaltungen notwendigen Materialien verdampft und damit mit gleicher Struktur auf einem Substrat abgeschieden. Die Masken werden auf 150 mm großen SOI-Wafern mit minimalen Strukturen bis 0,8 µm und einer Kantenrauigheit von kleiner 50 nm erzeugt. Dadurch entsteht eine erstklassige Gleichmäßigkeit der Bauelemente, durch die bestimmte Schaltungstopologien erst möglich werden.

OTFTs werden aufgrund der kostengünstigen Produktion im Niedertemperaturbereich auf leichten und großflächigen Substraten als fundamentale Technologie für die künftige Produktion von flexiblen Elektronikprodukten betrachtet. Dazu gehören flexible Displays, intelligente Pflaster zur medizinischen Überwachung, Biosensoren und andere Lösungen, wie z. B. RF-ID in Etiketten und Eintrittskarten sowie intelligente Beschilderungen und Leitsysteme.

Kontakt

 

Institut für Nano- und Mikroelektronische Systeme (INES)

Pfaffenwaldring 47, 70569 Stuttgart

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